产品介绍:
全新分离技术设计**技术的超微细研磨介质分级技术,物料出料畅通无阻,*不堵塞筛网,避免清洗筛网等情况。从小型试验到大型生产都具备的高效纳米砂磨机;经过*优化的创新构造设计,能够适用于硅碳负极材料、石墨烯、碳材料、陶瓷氮化物材料、纳米抛光液等材料的超微细分散研磨。
可用于产品研发、检验原材料、质量控制、过程优化及验证配方等;研磨效果等同大型生产设备,实验结果可直接放大于生产。
研磨水性物料/研磨溶剂性物料/研磨易被污染的物料
产品特点:
1.双动力结构,无筛网离心式分离不堵料;研磨效率高、粒径分布狭窄;其核心结构件针对不同物料选择不同材质、磨耗低、使用成本低;德国密封技术稳定性好。
2.此为研发设备,直驱结构,操作灵活,稳定性强,代表了当前湿法研磨的技术前沿。可用于产品研发、检验原材料、质量控制、过程优化及验证配方等,该设备已得到全国30多座高等院校及科研机构验证和使用。
应用领域:
MLCC/LTCC、氧化铝、氧化锆、磷酸铁锂、硅碳负极、石墨烯、钛酸钡、印花墨水、打印墨水、CNT浆料、纳米新材料、陶瓷墨水、碳材料、陶瓷氮化物材料、纳米抛光液
产品参数:
型号 | 研磨缸容积(L) | 电机功率(KW) | 分离电机功率(KW) | 分散器转速(rpm) | 流量(L/h) | 产能(L/h) | 研磨介质(mm) | 重量(kg) | 外形尺寸(mm) |
CLSDN-0.5 | 0.5 | 7.5 | 5.5 | 3800 | 30-200 | 10-50 | ≥0.05 | 860 | 900*1400*1700 |
CLSDN-1 | 1 | 7.5 | 5.5 | 3800 | 30-200 | 10-50 | ≥0.05 | 860 | 900*1400*1700 |
CLSDN-2 | 2 | 7.5 | 5.5 | 3800 | 30-200 | 10-50 | ≥0.05 | 860 | 900*1400*1700 |
CLSDN-3 | 3 | 7.5 | 5.5 | 3800 | 30-200 | 10-50 | ≥0.05 | 860 | 900*1400*1700 |